半岛euv_电子产品世界IT之家8 月 22 日消息，法拉第未来在最新的季度报告中称，其亏损有所缩小，并表示已经进入创收阶段。该公司在截至 6 月 30 日的第二季度的亏损为 1.249 亿美元（IT之家备注：当前约 9.13 亿元人民币），即每股 10 美分，而去年同期的亏损为 1.417 亿美元，即每股 44 美分。法拉第未来在本季度没有报告任何收入。总运营费用从 1.375 亿美元降至 4,940 万美元，主要是由于研发和管理费用的减少。法拉第未来在给投资者的信中表示，公司计划在未来几个月内将其制造团队扩大两倍

　　据日本媒体报导，光刻机设备龙头阿斯麦（ASML）执行副总裁Christophe Fouquet近日在比利时imec年度盛会ITF World 2023表示，半导体产业需要2030年开发数值孔径0.75的超高NA EUV光刻技术，满足半导体发展。Christophe Fouquet表示，自2010年以来EUV技术越来越成熟，半导体制程微缩至2020年前后三年，以超过50%幅度前进，不过速度可能会在2030年放缓。故ASML计划年底前发表首台商用High-NA（NA=0.55）EUV微影曝光设备（原型制作），

　　对于半导体行业而言，光刻技术和设备发挥着基础性作用，是必不可少的。所谓光刻，就是将设计好的图形从掩模版转印到晶圆表面的光刻胶上所使用的技术。光刻技术最先应用于印刷工业，之后长期用于制造印刷电路板（PCB），1950 年代，随着半导体技术的兴起，光刻技术开始用于制造晶体管和集成电路（IC）。目前，光刻是 IC 制造过程中最基础，也是最重要的技术。在半导体产业发展史上，光刻技术的发展经历了多个阶段，接触/接近式光刻、光学投影光刻、分步（重复）投影光刻出现时间较早，集成电路生产主要采用扫描式光刻半岛体育官方网站、浸没式扫描光刻

　　6月7日消息，英特尔今年下半年将会推出14代酷睿Meteor Lake处理器，首发Intel 4工艺，这是该公司首款EUV工艺，而且还会用上全新3D封装工艺，处理器变化非常大。在迎接4nm EUV的同时，英特尔也在加快清理遗产，2020年发布的11代酷睿Tiger Lake处理器现在也进入了退役阶段，这一批主要是中低端的酷睿i7/i5/i3及赛扬系列，包括U系列及H35系列，最高端的就是酷睿i7-1165G7。与之一同退役的还有配套的500系芯片组，包括RM590E，HM570E和QM580E系列。这些产

　　IT之家5 月 26 日消息，据韩媒 Aju News 报道，三星计划自 2023 年第三季度开始，对韩国华城园区 S3 工厂减少至少 10%的晶圆投片量。▲ 图源：三星报道称，三星半导体将在第三季度开始，对华城园区 S3 工厂进行减产作业。S3 工厂是三星半导体于 2018 年建成投产的 12 英寸生产线nm 产品，也是三星半导体 EUV 先进工艺的主力生产厂之一，三星为其部署了多台 ASML 的 NXE3400 EUV 光刻机。Aju News

　　5月17日消息，原本已经落后的日本半导体制造行业近年来加快了追赶速度，去年8月份索尼、丰田等8家企业出资成立了Rapidus，计划2025年试产2nm工艺，而且很快就筹备了EUV光刻机。日本当前的逻辑工艺还在28nm以上，但是Rapidus公司选择跳过中间的工艺，直接搞2nm工艺，而5nm以下的工艺都离不开EUV光刻机，不论研发还是制造都要先买设备。Rapidus社长小池淳义日前在采访中透露，他们已经完成了1台EUV光刻机的筹备，不过具体的型号及进度没有说明，不确定是ASML的哪款EUV光刻机，何时安装、

　　在如今这个信息时代，如果说我们的世界是由芯片堆积起来的高楼大厦，那么芯片制造，则是这里面高楼的地基，而谈到芯片制造各位读者自然就能想到光刻机，没错，作为人类商业化机器的工程奇迹，光刻机自然是量产高性能芯片的必要设备。特别是随着这几年中美贸易战的加剧，光刻机这种大部分可能一生都不会见到的机器一下子成了妇孺皆知的存在，那么光刻机是如何工作的呢？它是如何在方寸之间的芯片上雕刻出上百亿的晶体管的呢？本篇文章就着重给大家介绍一下目前最先进，也是我国被“卡脖子”的EUV（极紫外）光刻机。    &

　　ASML 财务总监 Roger Daasen 表示，今年未来几个季度中国的销量将显著回升。

　　终端市场需求低迷半岛体育官方网站，近期市场传出台积电将宣布调降今年资本支出，恐冲击艾司摩尔（ASML）及应用材料等设备厂出货，甚至传出艾司摩尔极紫外光（EUV）机台被砍单消息，不过业界普遍认为可能性不高，原因在于EUV机台交期长达12～15个月，且中长期来看EUV产能仍供不应求。 ASML预计19日举行法人说明会，可望针对EUV曝光机已接订单（backlog）变化提出说明。半导体生产链仍在进行库存调整，市场传出台积电可能在法人说明会中下修全年资本支出，加上内存厂放慢扩产计划，将导致EUV曝光机订单减少或延后，受此消息影响

　　3 月 8 日，ASML 发表声明回应荷兰政府即将出台的半导体设备出口管制措施。ASML 称，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统，ASML 将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式 DUV 系统。ASML 强调，这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行记者会上半岛体育官方网站，有媒体提问，据报道，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔向荷议会致函称，出于考虑，荷兰将于今年夏天之前对其芯片出口实施限制性措施。中方对此有何评论？外交部发言人毛

　　众所周知，当前全球只有ASML一家能够生产EUV光刻机，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有ASML能够生产光刻机，不会有第二家。原因在于ASML把EUV光刻机的路堵住了，这条路别人是走不通的。ASML与全球众多的供应链，形成了关系，像蔡司等与ASML形成了利益共同体，EUV光刻机中，蔡司等厂商至关重要，掌握核心科技，缺少这些供应链，厂商不可能制造出EUV光刻机。所以，目前众多的光刻机企业，并不打算走EUV光刻机这条路，在另寻它路。同样的，国产光刻机基本上也走不通EUV这条路，只能另寻他路，而

　　据报道，荷兰和日本已与美国达成协议，共同限制向中国出口芯片制造工具，这将进一步削弱中国半导体行业的发展，因为除了限制中国制造商使用 EUV 光刻机外，进一步限制其使用浸没式 DUV 光刻机。但在美国对中国发起的严格出口限制中，中国半导体企业是否可以利用任何关键漏洞来缓冲冲击？这似乎是一个值得仔细研究的问题。近年来，美国加大了对中国半导体产业发展的打压力度。不仅设计了各种策略和行动，还动员了盟友的参与。在 2022 年 10 月对向中国出口先进芯片制造工具和技术实施全面出口限制后，美国急于让拥有 ASML

　　在半导体行业，EUV一般指EUV光刻，即极紫外光刻。 极紫外光刻（英语：Extreme ultra-violet，也称EUV或EUVL）是一种使用极紫外（EUV）波长的光刻技术。 EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源，可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。 根据瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），这么短的波长可以提供极高 [查看详细]